Träger, Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Wafern sowie Verwendung der hergestellten Wafer

摘要

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Träger zur Herstellung von Wafern, die aus einem am Träger angeklebten Materialblock geschnitten sind, wobei der Träger zumindest einen Durchlass zum Zuführen von Reinigungsmittel zwischen die am Träger hängenden Wafer aufweist. Die vorliegende Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zum Herstellen von Wafern, welches die folgenden Verfahrensschritte umfasst: - Ankleben eines Materialblocks an einen Träger; - Schneiden des Materialblocks in am Träger hängende Wafer; - Reinigen der am Träger hängenden Wafer mit einem Reinigungsmittel; wobei das Reinigungsmittel zumindest zeitweise von oben zwischen die hängenden Wafer geführt wird. Die vorliegende Erfindung betrifft ferner eine Vorrichtung zum Herstellen von Wafern mit dem erfindungsgemäßen Verfahren. Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung eine Verwendung der mit dem erfindungsgemäßen Träger und/oder mit dem erfindungsgemäßen Verfahren und/oder mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung hergestellten Wafer als Solarzelle, als Halbleiterwafer oder als Quarzwafer.