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发明名称 Überwachung der Elektronenstrahldosis in der Rasterelektronenmikroskopie und in Geräten zur Messung kritischer Grössen
摘要
申请公布号 DE69841559(D1) 申请公布日期 2010.04.29
申请号 DE19986041559 申请日期 1998.01.16
申请人 KLA-TENCOR CORP. 发明人 RICHARDSON, NEIL;ASKARY, FARID;CONCINA, STEFANO E.;MONAHAN, KEVIN M.;ADLER, DAVID L.
分类号 H01J37/20;H01J37/28;H01J37/147 主分类号 H01J37/20
代理机构 代理人
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