发明名称 | 反射体的制造方法及反射体制造装置 | ||
摘要 | 一种反射体的制造方法及反射体制造装置,该反射体的制造方法,其特征在于:在基片上形成感光性树脂层后,一边沿一方向输送上述基片、一边将大致圆柱状的转印模辊压接在该感光性树脂层上并使该转印模辊旋转,且该转印模辊周面上形成有凹凸形状的转印面,从而将上述凹凸形状转印到上述感光性树脂层上,并对刚转印后的上述感光性树脂层预照射紫外线。从而,提供一种量产性优越、且在从转印到紫外线射的期间感光性树脂不会自然变形、也容易进行微细孔形成等的后续加工的反射体的制造方法及反射体制造装置。 | ||
申请公布号 | CN1573471B | 申请公布日期 | 2010.04.28 |
申请号 | CN200410047693.6 | 申请日期 | 2004.05.26 |
申请人 | 阿尔卑斯电气株式会社 | 发明人 | 陈宁 |
分类号 | G02F1/1335(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1335(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 李香兰 |
主权项 | 一种反射体的制造方法,其特征在于:在基片上形成感光性树脂层后,一边沿一方向输送上述基片、一边将大致圆柱状的转印模辊压接在上述基片上的上述感光性树脂层上并使该转印模辊旋转,且该转印模辊周面上形成有凹凸形状的转印面,从而将上述凹凸形状转印到上述感光性树脂层上,并对刚转印后的上述感光性树脂层预照射紫外线,从距上述感光性树脂层离开5cm以上50cm以下的位置,朝向相对上述基片或上述转印模辊的行进方向的正交方向倾斜0°~50°的方向、进行上述紫外线的预照射,上述紫外线的预照射量为每上述基片的单位面积在30mJ/cm2以下。 | ||
地址 | 日本东京都 |