发明名称 |
用于对根据比色法测定二氧化硅量的设备进行零点校准的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种用于校准设备零点的方法,所述设备利用比色法测定待分析二氧化硅溶液的试样中所含的二氧化硅量,所述比色法在于在所述试样中连续加入钼酸盐溶液、显色剂和一种试剂。为了确定零点,在所述待分析二氧化硅溶液的试样中加入所述显色剂、然后是所述钼酸盐溶液、最后是所述还原剂。 |
申请公布号 |
CN1774625B |
申请公布日期 |
2010.04.28 |
申请号 |
CN200380100905.6 |
申请日期 |
2003.10.03 |
申请人 |
赫奇两合公司 |
发明人 |
A·马特申科;F·勒迈特;R·卡比 |
分类号 |
G01N21/78(2006.01)I;G01N33/18(2006.01)I;G01N31/22(2006.01)I |
主分类号 |
G01N21/78(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
王杰 |
主权项 |
用于校准设备零点的方法,所述设备利用比色法测定试样溶液中所含的二氧化硅量,包括在所述试样中加入钼酸盐溶液、显色剂溶液和还原剂的相继步骤,之后进行光吸收测量,所述零点校准方法包括以下步骤:a)获得待分析的试样;b)将该显色剂溶液引入到所述试样中;c)获得所述试样的第一吸收测量;d)将该钼酸盐溶液引入到所述试样中;e)将还原剂引入到所述试样中;f)获得所述试样的第二吸收测量;和g)使用第一和第二吸收测量计算设备的零点。 |
地址 |
法国大努瓦西 |