半导体基板清洗设备和系统

摘要

本发明提供一种清洁半导体基板的方法。此方法是以产生声能的方式起始，而此声能是以实质上垂直于半导体基板表面的方向前进。而后，产生沿实质上平行于半导体基板表面的方向前进之声能。每一个方向的声能都能被同时产生或交替产生。本发明也提供清洁半导体基板的系统与设备。

主权项

一种半导体基板清洗设备，包含：a)一基座；b)至少一侧壁，从该基座延伸出来，该侧壁实质上垂直于该基座；c)一第一百万赫超音波转换器，固定在该基座上；及d)一第二百万赫超音波转换器，固定在该侧壁上；其中，该第一百万赫超音波转换器实质上垂直于该第二百万赫超音波转换器地定向；其中，该第一百万赫超音波转换器用以将基于空穴效应目的的声能提供给该半导体基板的表面上所形成的特征部，且该第二百万赫超音波转换器用以将基于声冲流目的的声能提供给该半导体基板的表面上所形成的特征部。