发明名称 | 电解剥离方法 | ||
摘要 | 本发明提供了一种电解剥离方法,该方法包括电解剥离:从银镀膜上暴露出的铜镀膜,所述银镀膜部分覆盖了在元件的整个表面上形成的铜镀膜;和利用铜镀膜作为阳极,形成于铜镀膜的暴露部分之上并且具有小于银镀膜厚度的渗漏出的银,其中,使用不含氰化合物的铜电解剥离液进行电解剥离,并且该电解剥离液包括能与银形成比银和氰的络合离子更容易解离的络合离子的化合物;并且其中,银和铜沉积在与阳极成反电极的阴极上,并且制成该阴极的金属在电解剥离液中的化学性质稳定。 | ||
申请公布号 | CN1637174B | 申请公布日期 | 2010.04.28 |
申请号 | CN200410086029.2 | 申请日期 | 2004.10.22 |
申请人 | 新光电气工业株式会社 | 发明人 | 荻原阳子;中沢昌夫 |
分类号 | C25F5/00(2006.01)I | 主分类号 | C25F5/00(2006.01)I |
代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 林柏楠;刘金辉 |
主权项 | 一种电解剥离方法,该方法包括电解剥离:从银镀膜上暴露出的铜镀膜,所述银镀膜部分覆盖了在元件的整个表面上形成的铜镀膜;和形成于铜镀膜的暴露部分之上并且具有小于银镀膜厚度的渗漏出的银,利用铜镀膜作为阳极,其中,使用不含氰化合物的铜电解剥离液进行电解剥离,并且该电解剥离液包括能与银形成比银和氰的络合离子更容易解离的络合离子的化合物;并且其中,银和铜沉积在与阳极成反电极的阴极上,并且该阴极由在电解剥离液中的化学性质稳定的金属制成,其中,所述电解剥离液包括氨水或铵盐,以及铜化合物或芳香类硝基化合物作为铜的氧化剂,并且调节该剥离液以使其具有9-12的pH值。 | ||
地址 | 日本长野县 |