发明名称 |
超导技术装置 |
摘要 |
本发明涉及一种超导技术装置,包括一块具有至少一个超导性绕组(50、50A、50B、50C、50D)的磁铁(2、2A、2B)和一个有至少一个冷头(26)的制冷单元(16)。此装置还包括一个管线系统,它有至少一根用于一种在其中按温差环流效率循环的冷却剂的管道(6),冷却剂用于所述至少一个绕组(50、50A、50B、50C、50D)与所述至少一个冷头(26)间接热耦合。冷头(26)设在所述至少一个绕组(50、50A、50B、50C、50D)最高点的下方。 |
申请公布号 |
CN1794004B |
申请公布日期 |
2010.04.28 |
申请号 |
CN200510022938.4 |
申请日期 |
2005.12.22 |
申请人 |
西门子公司 |
发明人 |
弗洛里安·斯坦迈耶 |
分类号 |
G01R33/3815(2006.01)I;H01F6/04(2006.01)I |
主分类号 |
G01R33/3815(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
侯宇;陶凤波 |
主权项 |
一种超导技术装置,其包括-一磁铁(2A、2B),该磁铁含有至少一个超导性的绕组(50、50A、50B、50C、50D),-一制冷单元(16),该制冷单元具有至少一个冷头(26),以及-一管线系统,该管线系统有至少一根用于一种在其中按温差环流效应循环的冷却剂的管道(6),冷却剂用于所述至少一个绕组(50、50A、50B、50C、50D)与所述至少一个冷头(26)间接热耦合,其特征为:所述制冷单元(16)包括一个设在所述至少一个绕组(50、50A、50B、50C、50D)最高点下方的用于冷却剂的储罐(14、14A),其中,所述绕组(50、50A、50B、50C、50D)包括一种热导率比在所述至少一个绕组(50、50A、50B、50C、50D)中采用的超导性材料的热导率更高的材料。 |
地址 |
德国慕尼黑 |