METHOD FOR FORMING RECESS PATTERN IN SEMICONDUCTOR DEVICE,申请号KR20060108820-传众专利搜索

首页产品黄页商标征信

会员服务注册登录

法人/股东/高管

发明名称	METHOD FOR FORMING RECESS PATTERN IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号	KR100954116(B1)	申请公布日期	2010.04.23
申请号	KR20060108820	申请日期	2006.11.06
申请人		发明人
分类号	H01L21/336	主分类号	H01L21/336
代理机构		代理人
主权项
地址

您可能感兴趣的专利

Ornamental stud and ornament dangling therefrom

Anaesthetic compositions

Preparation of formamides

Substituted benzamidopiperidinopropanes

17-aminoyohimbane and substitution products thereof

Optical products

Brake lever mechanism

Electrical insulating structure and method of making the same

Phase detector systems

Multi-speed induction motor control systems

Schmieren von Verbrennungskraftmaschinen

Anordnung zur photographischen Aufnahme des Augenhintergrundes, insbesondere der Netzhaut

Einteiliger Rettungsanzug

Kleiderschutz fuer Fahrraeder, Motorfahrraeder, Kraftraeder u. dgl.

Photographischer Film zur Herstellung unscharfer Masken

Verfahren zur Herstellung einer Waermeisolierung, insbesondere fuer Rohrleitungen

Elastisches Gummi-Metallager