| 发明名称 |
氧化物烧结体、氧化物透明导电膜，以及这些物体之制造方法 |
| 摘要 |
本发明提供一种氧化物烧结体，在以电子束蒸镀法、离子电镀(ion－plating)法、高密度电浆辅助蒸镀法(plasma assist evaporation)等的真空蒸镀法制造氧化物透明导电膜时，即使投入大量的电子束，亦不发生破损或龟裂的现象。该氧化物烧结体含有固熔(solid solution)的钨的与铟氧化物(indium oxide)，钨与铟之原子数比在0.001以上0.034以下之范围，密度为4.0g/cm3以上6.5g/cm3以下。 |
| 申请公布号 |
TWI323724 |
申请公布日期 |
2010.04.21 |
| 申请号 |
TW095119553 |
申请日期 |
2006.06.02 |
| 申请人 |
住友金属鑛山股份有限公司 |
发明人 |
阿部能之;中山德行;小原刚;和气理一郎 |
| 分类号 |
C01G15/00;C01G41/02;H01B5/14;C23C14/08 |
主分类号 |
C01G15/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪武雄;陈昭诚 |
| 主权项 |
一种蒸镀用氧化物烧结体锭，其特征为：含有固溶钨之铟氧化物，其中，钨对铟的原子数比在0.001以上0.034以下之范围，且不含金属层，该烧结体的密度在4.0g/cm3以上5.9g/cm3以下，该氧化物烧结体之结晶粒径的平均值为10μm以上。 |
| 地址 |
日本 |
