发明名称 |
用于低浓度气体之金属触媒反应方法以及其反应器 |
摘要 |
本发明提供一种用于低浓度气体之金属触媒反应方法,其系包括有下列步骤:首先,提供一金属触媒;以及使该金属触媒产生能量变化以与至少一种低浓度气体进行反应,而降低该低浓度气体之浓度。此外,根据该方法,本发明更提供一种用于低浓度气体之金属触媒反应器,至少包含一金属触媒及一加能装置;其中该加能装置可改变该金属触媒之能量,以加强该金属触媒与至少一低浓度气体的反应。利用本发明之方法以及装置可加强以及活化该金属触媒与至少一低浓度气体的反应,进而降低该低浓度气体之浓度。 |
申请公布号 |
TWI323675 |
申请公布日期 |
2010.04.21 |
申请号 |
TW095127634 |
申请日期 |
2006.07.28 |
申请人 |
财团法人工业技术研究院 |
发明人 |
吴旭圣;江旭政 |
分类号 |
B01J23/38;B01J21/00;B01J35/04;B01J38/00;B01D53/86;B01D53/62 |
主分类号 |
B01J23/38 |
代理机构 |
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代理人 |
何文渊;陈正益 |
主权项 |
一种金属触媒反应方法,其系包括有下列步骤:(a)提供一金属触媒,该金属触媒系包含一奈米金属物质;(b)使用一加能装置直接提高该金属触媒之能量,该加能装置系为一加热装置;以及(c)使提高能量后之金属触媒与低浓度一氧化碳气体进行反应,而降低该低浓度气体之浓度。 |
地址 |
新竹县竹东镇中兴路4段195号 |