金属插塞的制作方法

摘要

一种接触窗开口的制作方法，包括先提供基底，此基底上已形成有介电层。然后，于介电层上形成非晶矽硬罩幕层，以暴露出介电层。再来，以非晶矽硬罩幕层为蚀刻罩幕，去除暴露出之介电层，以形成开口。最后，形成阻障层以覆盖开口之表面。本发明以非晶矽层作为硬罩幕层，由于其晶粒尺寸(Grain Size)微小的物理特性，因此，于阻障层中的钛金属层与非晶矽罩幕层介面上形成的矽化钛(TiSi2)层，将可被完全地移除，从而避免了漏电现象的产生。

主权项

一种金属插塞的制作方法，包括：提供一基底，该基底上已形成有一介电层；于该介电层上形成一非晶矽硬罩幕层，以暴露出该介电层；以该非晶矽硬罩幕层为蚀刻罩幕，去除暴露出之该介电层，以形成一开口；形成一阻障层覆盖该开口之表面和该非晶矽硬罩幕层；于该基底上形成一金属层并填满该开口；对该金属层进行一第一平坦化制程，以去除该开口以外的该金属层；以及进行一第二平坦化制程，以去除部份该阻障层与该非晶矽硬罩幕层。