发明名称 硅片喷淋清洗槽
摘要 本实用新型公开了一种硅片喷淋清洗槽,设有槽体,其特征在于:槽体内可放置硅片清洗花篮(9),在槽体(1)的一端设有平移气缸(6),该气缸上通过固定块(7)固定装有水平移动的平移喷淋管(2),该喷淋管上设有喷嘴(3);在槽体一端的下部设有升降气缸(5),该气缸通过安装板(8)固定装有在槽体内两侧升降移动的两个升降喷淋管(4),该喷淋管上设有喷嘴(3.1)。本实用新型适用于硅片整篮进行清洗,操作简便,能全方位均匀清洗,不损伤硅片。
申请公布号 CN201440405U 申请公布日期 2010.04.21
申请号 CN200920109664.6 申请日期 2009.06.30
申请人 北京七星华创电子股份有限公司 发明人 于皓洁;杜飞龙
分类号 H01L21/00(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种硅片喷淋清洗槽,设有槽体,其特征在于:槽体内可放置硅片清洗花篮(9),在槽体(1)的一端设有平移气缸(6),该气缸上通过固定块(7)固定装有水平移动的平移喷淋管(2),该喷淋管上设有喷嘴(3);在槽体一端的下部设有升降气缸(5),该气缸通过安装板(8)固定装有在槽体内两侧升降移动的两个升降喷淋管(4),该喷淋管上设有喷嘴(3.1)。
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