发明名称 |
硅片喷淋清洗槽 |
摘要 |
本实用新型公开了一种硅片喷淋清洗槽,设有槽体,其特征在于:槽体内可放置硅片清洗花篮(9),在槽体(1)的一端设有平移气缸(6),该气缸上通过固定块(7)固定装有水平移动的平移喷淋管(2),该喷淋管上设有喷嘴(3);在槽体一端的下部设有升降气缸(5),该气缸通过安装板(8)固定装有在槽体内两侧升降移动的两个升降喷淋管(4),该喷淋管上设有喷嘴(3.1)。本实用新型适用于硅片整篮进行清洗,操作简便,能全方位均匀清洗,不损伤硅片。 |
申请公布号 |
CN201440405U |
申请公布日期 |
2010.04.21 |
申请号 |
CN200920109664.6 |
申请日期 |
2009.06.30 |
申请人 |
北京七星华创电子股份有限公司 |
发明人 |
于皓洁;杜飞龙 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种硅片喷淋清洗槽,设有槽体,其特征在于:槽体内可放置硅片清洗花篮(9),在槽体(1)的一端设有平移气缸(6),该气缸上通过固定块(7)固定装有水平移动的平移喷淋管(2),该喷淋管上设有喷嘴(3);在槽体一端的下部设有升降气缸(5),该气缸通过安装板(8)固定装有在槽体内两侧升降移动的两个升降喷淋管(4),该喷淋管上设有喷嘴(3.1)。 |
地址 |
100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号 |