发明名称 校正生长腔温度的方法
摘要 本发明的校正生长腔温度的方法包括以下步骤:步骤1,绘制多晶硅折射率-温度曲线;步骤2,以步骤1绘制的多晶硅折射率-温度曲线为依据,校正生长腔的温度。该方法操作简单、成本低且校正精度高。
申请公布号 CN101696495A 申请公布日期 2010.04.21
申请号 CN200910197816.7 申请日期 2009.10.28
申请人 上海电机学院 发明人 杨建滨
分类号 C23C16/52(2006.01)I 主分类号 C23C16/52(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 郑玮
主权项 一种校正生长腔温度的方法,其特征在于,其包括以下步骤:步骤1,绘制多晶硅折射率-温度曲线;步骤2,以步骤1绘制的多晶硅折射率-温度曲线为依据,校正生长腔的温度。
地址 200240 上海市闵行区江川路690号