发明名称 | 反应管 | ||
摘要 | 1.本外观设计产品为一种半导体制造用衬底处理装置。2.本外观设计产品由透明材料制成。3.右视图与左视图对称,故省略右视图。 | ||
申请公布号 | CN301176653S | 申请公布日期 | 2010.04.21 |
申请号 | CN200830138350.X | 申请日期 | 2008.11.07 |
申请人 | 株式会社日立国际电气 | 发明人 | 中岛诚世 |
分类号 | 15-99 | 主分类号 | 15-99 |
代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 苏娟 |
主权项 | |||
地址 | 日本东京都 |