发明名称 |
曝光机 |
摘要 |
本实用新型曝光机主要在一曝光平台的两个相对应侧分别设有一第一线性滑轨,另有至少一第二线性滑轨跨设于两个第一线性滑轨之间,该至少一第二线性滑轨上设有一光源组用以产生朝向曝光平台照射的曝光光源;以及,设有一第一驱动组件用以带动第二线性滑轨沿着第一线性滑轨位移,设有第二驱动组件用以带动光源组沿着第二线性滑轨位移,让曝光光源到达曝光平台的预定区域,而对曝光平台上的被加工物进行曝光显影。 |
申请公布号 |
CN201438259U |
申请公布日期 |
2010.04.14 |
申请号 |
CN200920164339.X |
申请日期 |
2009.06.30 |
申请人 |
景兴精密机械有限公司 |
发明人 |
徐福润 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;H05K3/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京申翔知识产权代理有限公司 11214 |
代理人 |
周春发;艾晶 |
主权项 |
一种曝光机,其特征在于,包括有:一供承载被加工物及原稿的曝光平台;两个第一线性滑轨,呈平行状态分别配设在该曝光平台的两个相对应侧;至少一第二线性滑轨,横跨于该两个第一线性滑轨之间;至少一用以产生朝向该曝光平台照射的曝光光源的光源组,设于该至少一第二线性滑轨上;至少一用以带动该第二线性滑轨沿着该第一线性滑轨位移的第一驱动组件;至少一用以带动各光源组沿着所属第二线性滑轨位移的第二驱动组件;以及,设定该至少一第二线性滑轨与该至少一光源组移动行程与移动速度的控制电路。 |
地址 |
中国台湾桃园县芦竹乡南崁路二段270号 |