基板处理装置以及基板处理方法

摘要

本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，基板处理装置具有分度器部、反射防止膜用处理部、抗蚀膜用处理部、干燥/显影处理部以及接口部。曝光装置相邻于接口部而被配置。干燥/显影处理部具有干燥处理部。接口部具有接口用搬送机构。在曝光装置中对基板进行曝光处理之后，通过接口用搬送机构将基板搬送到干燥处理部，在干燥处理部对基板进行清洗以及干燥。

主权项

一种基板处理装置，相邻于曝光装置而配置，该曝光装置通过浸液法进行基板的曝光处理，其特征在于，该基板处理装置具有：处理部，其用于对基板进行处理；交接部，其用于在上述处理部和上述曝光装置之间进行基板的交接；上述处理部包含有进行基板的干燥的第一处理单元，上述交接部包含有在上述处理部和上述曝光装置之间搬送基板的搬送装置，上述搬送装置将从上述曝光装置搬出的基板搬送到上述第一处理单元，上述第一处理单元在对基板进行干燥之前还对基板进行清洗，上述第一处理单元包括：基板保持装置，其将基板水平保持；旋转驱动装置，其使由上述基板保持装置保持的基板以垂直于该基板的轴为中心进行旋转；清洗液供给部，其将清洗液供给到由上述基板保持装置保持的基板上；惰性气体供给部，其在由上述清洗液供给部向基板上供给清洗液之后，向基板上供给惰性气体。