真空处理装置

摘要

本发明的课题为，对于利用具有游离基通过的多个贯通孔的隔壁板将真空反应室内分离成等离子体放电空间和基板处理空间、在等离子体放电空间中产生的游离基通过隔壁板的前述多个贯通孔导入基板处理空间、对配置在基板处理空间中的基板进行处理的装置，改善伴随隔壁板整体的更换的装置的运转成本。本发明利用隔壁本体和控制板形成隔壁板，从而解决了上述课题，其中，所述隔壁本体配有多个贯通孔，所述控制板配置在该隔壁本体的等离子体生成空间侧，在与配置在隔壁本体上的前述贯通孔对应的位置处具有游离基通过孔。

主权项

一种真空处理装置，利用具有游离基可通过的贯通孔的隔壁板，将真空反应室内分离成等离子体生成空间和基板处理空间，将气体导入等离子体生成空间并利用等离子体产生游离基，该游离基通过位于前述隔壁板上的多个贯通孔并导入至基板处理空间，对配置在该基板处理空间中的基板进行处理，其特征在于，由隔壁本体和控制板形成前述隔壁板，所述隔壁本体配有多个贯通孔，所述控制板是在该隔壁本体的等离子体生成空间侧可拆装地安装在该隔壁本体上的控制板，在与配备在该隔壁本体上的前述贯通孔相对应的位置上具有游离基通过孔，控制板配有具有游离基通过孔的凸部，该凸部被插入到配备在前述隔壁本体上的贯通孔中。