发明名称 具有排气处理单元之连续窑
摘要 本发明系提供一种可吸入含有自被烧成物产生之黏结剂挥发物之窑体内环境气体且不残留,并利用触媒氧化分解(燃烧)黏结剂挥发物且进行排气之具有排气处理单元之连续窑。具有排气处理单元之连续窑系将管状或细长箱状之气体吸入构件设置在窑体内之上部与被烧成物之搬送方向正交之方向,或设置在窑体内之侧部与被烧成物之搬送方向平行之方向,而前述气体吸入构件系大致横跨全长地形成多数吸入气体之孔或缝隙,且该气体含有自被烧成物产生之黏结剂挥发物者,又,于自该气体吸入构件朝窑体外导出之排气管路中途,设置有内建触媒载体之排气处理单元,且该触媒载体系载持有氧化分解前述黏结剂挥发物之触媒且可自由通气者。
申请公布号 TWI323332 申请公布日期 2010.04.11
申请号 TW093110365 申请日期 2004.04.14
申请人 光洋热系统股份有限公司 发明人 森本严穗
分类号 F27D7/06 主分类号 F27D7/06
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项 一种具有排气处理单元之连续窑,其特征在于:将管状或细长箱状之气体吸入构件大致跨整体窑宽地水平设置在窑体内之上部与被烧成物之搬送方向正交之方向,或设置在窑体内之侧部中与被烧成物之搬送方向平行之方向,且前述气体吸入构件系大致跨全长地形成有多数吸入气体之孔或缝隙,该气体含有被烧成物所产生之黏结剂挥发物;又,于自该气体吸入构件朝窑体外导出之排气管路中途设置有排气处理单元,该排气处理单元内建有:触媒载体,系载持有将前述黏结剂挥发物予以氧化分解之触媒且可自由通气者;辅助加热器,系较该触媒载体更靠近气体导入口侧,且将排出气体加热至触媒之活性化温度以上者;第一温度感测器,系用以控制该辅助加热器所加热之排出气体的温度者;过滤器,系较触媒载体更靠近前述辅助加热器侧者;及第二温度感测器,系较触媒载体更靠近气体排出口侧,用以监视处理后之排出气体的温度者。
地址 日本