涂布方法及涂布装置

摘要

本发明系关于一种非旋转涂布方式中有关于涂布膜的膜厚控制；尤其是关于可以用稳定的动作，而且重现性良好地使涂布扫描终端部的膜厚均等化。其解决问题的方式系：在光阻液喷嘴78通过通过点X1的时点t1时使光阻泵停止时起，在经过一定的迟延时间后的时点ta，使光阻液喷嘴78的吐出压力开始衰减。另一方面，与此具有时间上的密接性，使光阻液喷嘴78的上升移动，与扫描速度的减速，分别在既定的时点t2、t3开始。如此一来，在光阻液喷嘴78的吐出压力衰减的过程中，光阻液喷嘴78上升移动，且扫描速度减慢。

主权项

一种涂布装置，其特征为具备：基板支持部，用以在一定的涂布区域内以大致水平的状态支持被处理基板；长条形喷嘴，用以在该涂布区域内，将处理液隔着既定的间隙吐出于该基板的顶面；处理液供应源，用以将该处理液压送到该喷嘴；扫描部，用以在该涂布区域内，使该喷嘴相对于该基板沿水平方向移动；升降部，用以在该涂布区域内，使该喷嘴相对于该基板沿铅直方向移动；以及控制部，用以进行如下控制：当该喷嘴于通过在该基板上所设定的第1通过点之时点时，控制该处理液供应源，使该处理液停止压送到该喷嘴；自该喷嘴于通过在该基板上所设定的第2通过点之时点起一直到扫描终了为止，控制该升降部，使该喷嘴相对于该基板，以既定的速度相对地朝向上方移动；自该喷嘴于通过事先在该基板上所设定的第3通过点之时点起一直到扫描终了为止，控制该扫描部，使该喷嘴相对于该基板朝向水平方向的相对移动速度减慢。