FIELD FACET MIRROR FOR USE IN AN ILLUMINATION OPTIC OF A PROJECTION ILLUMINATION SYSTEM FOR EUV MICROLITHOGRAPHY

摘要

Ein Feldfacettenspiegel dient zum Einsatz in einer Beleuchtungsoptik in einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Mikrolithographie zur Übertragung einer in einem Objektfeld angeordneten Struktur eines Objektes in ein Bildfeld. Der Feldfacettenspiegel hat eine Mehrzahl von Feldfacetten (18) mit Reflexionsflächen (22). Die Reflexionsflächen (22) der Feldfacetten (18) sind jeweils durch eine Stirnwand eines Facetten- Grundkörpers ausgebildet. Der Facetten-Grundkörper ist von zwei gegenüberliegenden sphärischen Seitenwänden begrenzt. Es resultiert ein Feldfacettenspiegel, bei dem eine Gewährleistung einer uniformen Objektfeld- Ausleuchtung bei gleichzeitig hohem EUV-Durchsatz hohen Anforderungen entspricht.