Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie zur Herstellung von Halbleiterbauelementen

摘要

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Mikrolithographie zur Herstellung von Halbleiterbauelementen, in welcher wenigstens eine optische Baugruppe (9a) mit wenigstens einem mechanisch kontrolliert aktuierbaren optischen Element (8a) in einer Struktur (6) gelagert ist, wobei zur Durchführung der mechanischen Aktuierung eine Steuersignalübertragungseinrichtung (11) und/oder eine Energieübertragungseinrichtung (12) vorgesehen ist, welche wenigstens während bestimmter Betriebszustände der Projektionsbelichtungsanlage (1) keine parasitären mechanischen Effekte in die optische Baugruppe (9a) einbringt.