METHOD FOR PRODUCING HIGH-PURITY SIO2 FROM SILICATE SOLUTIONS,申请号WO2009EP62502-传众专利搜索

发明名称	METHOD FOR PRODUCING HIGH-PURITY SIO2 FROM SILICATE SOLUTIONS
摘要	<p>Die vorliegende Erfindung betrifft ein neues Verfahren zur Herstellung von hochreinem SiO2 aus Silikatlösungen, ein neues hochreines SiO2 mit speziellem Verunreinigungsspektrum sowie dessen Verwendung.</p>
申请公布号	WO2010037702(A1)	申请公布日期	2010.04.08
申请号	WO2009EP62502	申请日期	2009.09.28
申请人	EVONIK DEGUSSA GMBH;PANZ, CHRISTIAN;RUF, MARKUS;TITZ, GUIDO;PAULAT, FLORIAN;RAULEDER, HARTWIG;MUELLER, SVEN;BEHNISCH, JUERGEN;PELTZER, JENS	发明人	PANZ, CHRISTIAN;RUF, MARKUS;TITZ, GUIDO;PAULAT, FLORIAN;RAULEDER, HARTWIG;MUELLER, SVEN;BEHNISCH, JUERGEN;PELTZER, JENS
分类号	C01B33/193	主分类号	C01B33/193
代理机构		代理人
主权项
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