| 摘要 |
<p>Um allgemein bekannte Verfahren zur Herstellung von fluordotiertem Quarzglas, bei denen mittels eines Plasma-Abscheideprozesses SiO2-Partikel in Gegenwart von Fluor gebildet und schichtweise auf einem Außenmantel eines um seine Längsachse rotierenden, zylinderförmigen Substratkörpers aus Quarzglas abgeschieden und zu einer Schicht aus Quarzglas mit einem Fluorgehalt von mindestens 1,5 Gew.-% verglast werden, dahingehend zu verbessern, dass ein Halbzeug aus Quarzglas mit hohem Fluorgehalt erhalten wird, das sich durch eine hohe Grundtransmission im UV-Wellenlängenbereich auszeichnet, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass der Substratkörper mindestens im Bereich des Außenmantels eine Reservoirschicht aus Quarzglas aufweist, das einen Hydroxylgruppengehalt von 200 Gew.-ppm oder mehr und/oder einen Wasserstoffgehalt von 1 . 1017 Molekülen/cm3 oder mehr aufweist.</p> |
