Hochreflektierender dielektrischer Spiegel und Verfahren zu dessen Herstellung, sowie eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel

摘要

Die Erfindung betrifft einen hochreflektierenden dielektrischen Spiegel, der mindestens einen gemischten Schichtstapel (B) aus einer Folge von fluoridischen und oxidischen Schichten aufweist. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines solchen hochreflektierenden dielektrischen Spiegels, sowie eine Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem solchen hochreflektierenden dielektrischen Spiegel.