PROCEDIMIENTO PARA EL MONITOREO Y CENTRADO DE UNO O MAS HACES DE PARTICULAS ENERGETICAS

摘要

El procedimiento de centrado y monitoreo de uno o más haces energéticos de la presente emplea un material de silicio poroso nanoestructurado, oxidado basado en silicio cristalino, que posee una superficie que cambia de manera reversible su coeficiente de emision de electrones secundarios inducida por un haz de electrones, cuando se lo somete al bombardeo de un haz de iones energéticos. Dicho material de silicio nanoestructurado posee una naturaleza fractal, que permite su uso en aplicaciones de monitoreo de haces de partículas energéticas, particularmente iones, sin cambios importantes hasta que opere el consumo total del material debido a efectos de pulverizacion catodica.