以硅基材料为介质层的低辐射玻璃

摘要

以硅基材料为介质层的低辐射玻璃，属于节能技术领域，其基本结构中依次包括玻璃基底、介质层、银层，其技术特征是，介质薄膜由组分渐变的硅氧、硅氮或硅氧氮薄膜构成。采用本发明的低辐射玻璃，不仅性能稳定，可靠性高，而且生产效率高，可大大降低成本，有利于大规模推广应用。

主权项

低辐射玻璃，具有单银层结构，其基本结构中，由下而上依次包括玻璃基底10、第1介质层11、银层12、第2介质层13，其特征在于：所述的每个介质层都由若干个子层构成，子层的数目在1到5之间选择；每个子层由组分渐变的硅氧薄膜、硅氮薄膜或硅氧氮薄膜构成；每个子层中，以该子层的中心平面为对称平面，硅组分和折射率在该平面的上下两侧成对称分布，硅组分和折射率最高的部位位于该子层的中心平面，硅组分和折射率最低的部位位于该子层最外侧的两个平面。