发明名称 |
光阻涂布方法及其光阻涂布设备 |
摘要 |
本发明公开了一种光阻涂布设备,包括一光阻涂布装置、一清洁装置以及一平台。基板置放于平台之上。当涂布光阻时,清洁装置先清除基板表面的微粒,接着,光阻涂布装置将光阻均匀喷洒于基板的表面。 |
申请公布号 |
CN1885164B |
申请公布日期 |
2010.04.07 |
申请号 |
CN200510079116.X |
申请日期 |
2005.06.24 |
申请人 |
友达光电股份有限公司 |
发明人 |
苏育煌;陈世仁;周振南 |
分类号 |
G03F7/16(2006.01)I;G03F7/26(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/16(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
夏青 |
主权项 |
一种光阻涂布设备,用以对一基板涂布一光阻,包括:一平台,用以置放该基板;一清洁装置,在该平台上方移动,以真空吸力清除多个微粒;以及光阻涂布装置,对该基板喷洒该光阻,其中,该清洁装置包括一吹气单元以及一吸气单元,该吹气单元朝该基板吹出一气体,以使所述多个微粒脱离该基板,该吸气单元以真空吸力清除该基板表面的所述多个微粒,其中,该吹气单元包括一吹气口,该吹气口为一狭缝,其中,该吹气口的宽度约为1~2毫米。 |
地址 |
中国台湾新竹 |