发明名称 |
表面贴装的正面接触制备 |
摘要 |
本发明提供了一种半导体设备,包括:半导体晶片,具有第一主要表面和相对的第二主要表面;在所述第一主要表面上的第一功率电极,具有形成在其一部分上的至少一个可焊体;在所述第一主要表面上的控制电极,具有形成在其一部分上的至少一个可焊体;以及形成在所述第一功率电极上的钝化体,包括用于使所述第一功率电极上的所述至少一个可焊体外露的开口,所述开口比该至少一个可焊体更宽,从而该至少一个可焊体通过一定间隙与所述钝化体隔开,所述间隙环绕所述第一功率电极上的所述至少一个可焊体,其中所述至少一个可焊体包括能够形成结晶的材料。 |
申请公布号 |
CN101019226B |
申请公布日期 |
2010.04.07 |
申请号 |
CN200580023952.4 |
申请日期 |
2005.05.27 |
申请人 |
国际整流器公司 |
发明人 |
M·施坦丁;A·梭勒;D·P·琼斯;M·卡罗尔;M·埃尔温 |
分类号 |
H01L23/02(2006.01)I;H01L23/52(2006.01)I;H01L23/48(2006.01)I;H01L29/40(2006.01)I |
主分类号 |
H01L23/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京润平知识产权代理有限公司 11283 |
代理人 |
周建秋;王凤桐 |
主权项 |
一种半导体设备,包括:半导体晶片,具有第一主要表面和相对的第二主要表面;在所述第一主要表面上的第一功率电极,具有形成在其一部分上的至少一个可焊体;在所述第一主要表面上的控制电极,具有形成在其一部分上的至少一个可焊体;以及形成在所述第一功率电极上的钝化体,包括用于使所述第一功率电极上的所述至少一个可焊体外露的开口,所述开口比该至少一个可焊体更宽,从而该至少一个可焊体通过一定间隙与所述钝化体隔开,所述间隙环绕所述第一功率电极上的所述至少一个可焊体,其中所述至少一个可焊体包括能够形成结晶的材料。 |
地址 |
美国加利福尼亚 |