| 发明名称 |
用于钽化学机械抛光（ＣＭＰ）之组合物及方法 |
| 摘要 |
一种适用于钽化学机械抛光(CMP)之组合物，其包含研磨剂、有机氧化剂及为其之液体载剂。该有机氧化剂具有相对于标准氢电极不超过0.5 V之标准氧化还原电位(E0)。经氧化之形式包含至少一个π共轭环，该环包括至少一个直接连接于该环之杂原子，该杂原子可为N、O、S或其组合。在一方法实施态样中，利用包含可研磨剂、及具有相对于标准氢电极不超过0.7 V之E0之有机氧化剂、及为其之液体载剂的CMP组合物抛光基板之含钽表面，其系藉由用该组合物研磨该基板之该表面，较佳者系以抛光垫辅助。 |
| 申请公布号 |
TWI322826 |
申请公布日期 |
2010.04.01 |
| 申请号 |
TW095135380 |
申请日期 |
2006.09.25 |
| 申请人 |
卡博特微电子公司 |
发明人 |
菲利普 卡特;张吉;史帝芬Ｋ 葛兰拜;法兰西斯可 迪瑞 塞沙洛 |
| 分类号 |
C09K3/14;C09G1/02;H01L21/304 |
主分类号 |
C09K3/14 |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
| 主权项 |
一种适用于钽化学机械抛光(CMP)方法中之CMP组合物，该CMP组合物包含：(a)研磨剂；(b)具有相对于标准氢电极不超过0.5 V之标准氧化还原电位(E0)的有机氧化剂，该有机氧化剂包含至少一个π共轭环，该环包括至少一个直接连接于该环之杂原子，该至少一个杂原子系选自由N、O、S及其组合组成之群，其中该有机氧化剂化合物系选自由下列组成之群：具有至少一个醌部分之化合物、对苯二胺化合物、啡(phenazine)化合物、硫董(thionine)化合物、啡恶(phenoxazine)化合物、啡恶噻(phenoxathiin)化合物、靛类化合物、靛酚化合物及其组合；及(c)为其之液体载剂。 |
| 地址 |
美国 |
