发明名称 场发射显示器电子发射源表面活化的方法(二)
摘要 一种场发射显示器电子发射源表面活化的方法(二),在未活化之阴极板制作完成后,于电子发射源层之一侧以溶剂制作保护层,以调制涂料,以涂装设备将涂料雾化涂布于前述以制作保护层之阴极板上,在涂料涂覆于阴极板后,再以焙烤数分钟,使贴覆层固化铸形,乾燥成膜后再以一滚筒式脱膜机构进行脱膜,可以均匀脱膜以均匀活化电子发射源层表面,在脱膜后之阴极板的电子发射层内仍有残留部份之溶剂,再以焙烤数分钟以充份移除多余的溶剂。
申请公布号 TWI322998 申请公布日期 2010.04.01
申请号 TW094144717 申请日期 2005.12.16
申请人 东元电机股份有限公司 发明人 李协恒;李裕安;蔡金龙;萧俊彦;郑奎文
分类号 H01J9/02;H01J1/304 主分类号 H01J9/02
代理机构 代理人 谢佩玲
主权项 一种场发射显示器电子发射源表面活化的方法(二),用以活化电子发射源表面之方法包括有:a)、取一未活化之阴极板;b)、于阴极板之电子发射源层一侧以溶剂涂附于电子发射源层的表面以形成一保护层,并以表面微热处理,以移除电子发射源层之非有效区域层之表面及奈米碳管层表面之小部分溶剂,仅保留电子发射源层表面及四周形成一溶剂之保护层;c)、以调制涂料,并将涂料涂布于前述之保护层上,以充分铸形于电子发射源层表面形成一贴覆层;d)、在上述溶剂涂覆于阴极板后,再以焙烤,使贴覆层固化铸形,乾燥成膜后再移除贴覆层,以均匀活化电子发射源层表面,在脱膜后之阴极板的电子发射源层内仍有残留部份之溶剂,再以焙烤充份移除多余的溶剂。
地址 台北市中山区松江路156之2号