微影装置及设备制造方法

摘要

本发明提供一种微影装置，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化设备，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上；一液体供应系统，其经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终元件与该基板之间的空间；一密封构件，其经大体上配置以在该投影系统之该最终元件与该基板之间的该空间内含有该液体；及若干元件，其用以控制及/或补偿浸液自该基板之蒸发。

主权项

一种微影装置，其包含：一支撑件，其经建构以支撑一图案化设备，该图案化设备能够在一辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上；一液体供应系统，其经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终元件与该基板之间的一空间；一密封构件，其实质上经配置以在该投影系统之该最终元件与该基板之间的该空间内含有该液体；及一液体蒸发控制器，其经配置以控制该液体供应系统所供应之液体的净蒸发速率，其中该液体蒸发控制器包含一气体湿度控制器，该气体湿度控制器配置以与一气体源互相作用，以提供一控制相对湿度大于10%的气体。