发明名称 Verfahren zur chemischen Behandlung eines Substrats
摘要 <p>Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur chemischen Behandlung eines eine Unterseitenfläche, Oberseitenfläche und Seitenflächen aufweisenden scheibenförmigen Substrats durch Kontaktieren eines flüssigen chemisch wirksamen Prozessmediums mit zumindest der Unterseitenfläche des Substrats, wobei das Substrat relativ zum Prozessmedium bei gleichzeitiger Ausbildung einer Tripellinie zwischen Substrat, Substratmedium und diese umgebender Atmosphäre bewegt wird. Um insbesondere in den Seitenflächen vorhandene Fehler chemisch zu entfernen, wird vorgeschlagen, dass die Relativbewegung unter Vermeidung eines Kontaktierens des Prozessmediums mit der Oberseitenfläche des Substrats durchgeführt wird, dass die Tripellinie in Bezug auf die Relativbewegung zwischen dem Substrat und dem Prozessmedium auf gewünschter Höhe an prozessmediumströmungsseitig abgewandter Seitenfläche ausgebildet wird und/oder dass die Atmosphäre in Bezug auf Partialdrücke von in dem Prozessmedium vorhandenen Komponenten derart eingestellt wird, dass die Oberseitenfläche hydrophobe Eigenschaften bewahrt oder diese ausgebildet werden.</p>
申请公布号 DE102008037404(A1) 申请公布日期 2010.04.01
申请号 DE20081037404 申请日期 2008.09.30
申请人 SCHOTT SOLAR AG 发明人 TEPPE, ANDREAS;SCHUM, BERTHOLD;FRANKE, DIETER;SCHWIRTLICH, INGO;VAAS, KNUT;SCHMIDT, WILFRIED
分类号 H01L21/306;C25F1/02;H01L21/302;H01L21/677;H01L31/18 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
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