发明名称 |
用于检测由不均匀染色引起的偏光片污迹的方法及使用该方法的自动检测系统 |
摘要 |
本发明提供了一种用于检测由不均匀染色引起的偏光板污迹的自动检测系统,该自动检测系统包括:光源;检测单元,其设置在光源的前面,并且该检测单元包括偏光轴相互平行设置的至少两个参比偏光板和设置在参比偏光板之间的目标偏光片或目标偏光板,并且以目标偏光片或目标偏光板的偏光轴垂直于参比偏光板的偏光轴的方式设置;成像单元,其对检测单元进行照相以采集图像数据;和运算操作单元,其分析在成像单元中采集的图像数据以确定目标偏光片或目标偏光板是否为次品。 |
申请公布号 |
CN101688942A |
申请公布日期 |
2010.03.31 |
申请号 |
CN200980000492.1 |
申请日期 |
2009.01.07 |
申请人 |
LG化学株式会社 |
发明人 |
李柱成;罗钧日;崔龙成 |
分类号 |
G02B5/30(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/30(2006.01)I |
代理机构 |
北京金信立方知识产权代理有限公司 |
代理人 |
刘 晔;朱 梅 |
主权项 |
1、一种用于检测由不均匀染色引起的偏光片污迹的自动检测系统,该自动检测系统包括:光源;检测单元,其设置在光源的前面,并且该检测单元包括偏光轴相互平行设置的至少两个参比偏光板和设置在参比偏光板之间的目标偏光片或目标偏光板,并且以目标偏光片或目标偏光板的偏光轴垂直于参比偏光板的偏光轴的方式设置;成像单元,其对检测单元进行照相以采集图像数据;和运算操作单元,其分析在成像单元中采集的图像数据以确定目标偏光片或目标偏光板是否为次品。 |
地址 |
韩国首尔 |