| 发明名称 | 后处理装置 | ||
| 摘要 | 后处理装置，包括交替设置的液槽和水槽，液槽和水槽底部设有液下辊且上沿设有导电辊，铜箔依次绕过导电辊和液下辊的异侧设置，液槽内设有阳极板，液槽内设置一个液下辊，阳极板的倾斜角度与导电辊和液下辊之间的铜箔的倾斜角度相当；阳极板与导电辊和液下辊之间的铜箔相平行设置。采用了这种结构后，大大降低了设备的故障率，减少了停机次数，产生压坑的机会明显减少，降低了维修成本，提高了生产效率。阳极板的倾斜角度与导电辊和液下辊之间的铜箔的倾斜角度相当，保证极距的均匀性。 | ||
| 申请公布号 | CN201433245Y | 申请公布日期 | 2010.03.31 |
| 申请号 | CN200920090260.7 | 申请日期 | 2009.05.15 |
| 申请人 | 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 | 发明人 | 薛宏伟;周晓波;孟社超;周建新 |
| 分类号 | C25C7/00(2006.01)I | 主分类号 | C25C7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 郑州联科专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 时立新 |
| 主权项 | 1、后处理装置，包括交替设置的液槽和水槽，液槽和水槽底部设有液下辊且上沿设有导电辊，铜箔依次绕过导电辊和液下辊的异侧设置，液槽内设有阳极板，其特征在于：液槽内设置一个液下辊，阳极板的倾斜角度与导电辊和液下辊之间的铜箔的倾斜角度相当。 | ||
| 地址 | 472500河南省灵宝市黄河路131号 | ||