Method for manufacturing inter layer dielectric in semiconductor device,申请号KR20070029268-传众专利搜索

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发明名称	Method for manufacturing inter layer dielectric in semiconductor device
摘要
申请公布号	KR100950469(B1)	申请公布日期	2010.03.31
申请号	KR20070029268	申请日期	2007.03.26
申请人		发明人
分类号	H01L21/31	主分类号	H01L21/31
代理机构		代理人
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