发明名称 用于生产半导体器件特别是太阳能电池的金属背部触点的方法
摘要 本发明涉及一种用于制造半导体器件的背部触点(21)的方法和用于实施所述方法的真空处理系统的使用方法,所述半导体器件特别是太阳能电池(20),所述背部触点包括真空处理室中的衬底(22)背部上的金属层(24)。通过所述方法以及其使用方法,因为不需要用于旋转衬底(22)的处理系统,特别是可以省掉丝网印刷步骤,所以尤其是硅基太阳能电池(20)可以在连续工艺序列中以简单的方式设置有背部触点(21),其中可以特别高效的和经济的设置所述工艺序列。
申请公布号 CN101689569A 申请公布日期 2010.03.31
申请号 CN200880023778.7 申请日期 2008.08.20
申请人 应用材料公司 发明人 罗兰·特拉斯里;斯蒂芬·威尔德;刘健;尤尔根·海因里希;格哈德·瑞斯特
分类号 H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I 主分类号 H01L31/0224(2006.01)I
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人 赵 飞;南 霆
主权项 1.一种用于生产半导体元件的背部触点(21)的方法,所述半导体元件优选太阳能电池,尤其是硅基太阳能电池(20),其中所述背部触点(21)包括衬底(22)背部上的金属层(24),所述半导体器件(20)在所述衬底(22)的正面和/或背部可具有额外层(23、25、27、28),通过沉积工具(14、15、16)设置所述层(23、24、25、27、28),其中在在线真空沉积系统(1)中由靶材(15)通过溅射或者通过气相沉积来沉积所述金属层(24),在沉积所述金属层(24)的前后,在所述在线真空沉积系统(1)中沉积至少一个所述额外层(23、25、27、28)而无需中断真空。
地址 美国加利福尼亚州