发明名称 |
光记录介质和用于光记录介质的反应性架桥树脂组合物 |
摘要 |
本发明提供了光记录介质以及用于该介质的反应性架桥树脂组合物。同时实现了降低光盘翘曲和降低光透过层的蠕变。在光透过层中,25℃下的弹性模量在1×10<sup>7</sup>Pa至5×10<sup>8</sup>Pa的范围内,-20℃的弹性模量在4×10<sup>8</sup>Pa至5×10<sup>9</sup>Pa的范围内,玻璃化转变温度为-20℃至0℃。光透过层的马氏硬度为10N/mm<sup>2</sup>以下。光透过层的压痕蠕变为2%以下。光透过层的压痕深度的返回值在0.2微米至2.0微米的范围内。 |
申请公布号 |
CN101689385A |
申请公布日期 |
2010.03.31 |
申请号 |
CN200980000515.9 |
申请日期 |
2009.04.30 |
申请人 |
索尼株式会社;索尼化学&信息部件株式会社 |
发明人 |
大川直树;石川裕之 |
分类号 |
G11B7/24(2006.01)I;G11B7/254(2006.01)I;G11B7/257(2006.01)I;C08F290/06(2006.01)I |
主分类号 |
G11B7/24(2006.01)I |
代理机构 |
北京康信知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
吴孟秋;梁 韬 |
主权项 |
1.一种由层压结构形成的光记录介质,包括:基板部;一个或多个信息信号部,用于记录或再生信息信号,并且从所述基板部看,所述信息信号部位于信息读出面侧,反射膜,形成在所述信息信号部上;以及光透过层,与所述反射膜相比更接近所述信息读出面侧,其中,在所述光透过层中,25℃下的弹性模量在1×107Pa至5×108Pa的范围内,-20℃下的弹性模量在4×108Pa至5×109Pa的范围内,并且玻璃化转变温度为-20℃至0℃。 |
地址 |
日本东京 |