发明名称 |
荧光测量 |
摘要 |
本发明描述了用于对荧光进行测量的方法和装置。所述方法包括:测量样品表面的至少一部分的至少一个轮廓,所述表面实质上横穿轴延伸;以及利用辐射来照射样品表面的所述部分以激励荧光。辐射的强度沿着轴随位置而变化。测量指示从样品表面的所述部分发射的荧光的空间强度分布的值。利用测量轮廓对荧光的测量值进行修改,以考虑入射在表面上的辐射强度的空间变化。 |
申请公布号 |
CN101688839A |
申请公布日期 |
2010.03.31 |
申请号 |
CN200880012484.4 |
申请日期 |
2008.04.09 |
申请人 |
科学技术设备委员会 |
发明人 |
史蒂芬·埃德温·多米尼克·韦布;玛丽莎·马丁-费尔兰德斯 |
分类号 |
G01N21/64(2006.01)I |
主分类号 |
G01N21/64(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
1、一种对来自样品的荧光进行测量的方法,包括以下步骤:测量样品表面的至少一部分的至少一个轮廓,所述表面实质上横穿轴延伸;利用辐射来照射样品表面的所述部分以激励荧光,辐射的强度沿着轴随位置而变化;测量指示从样品表面的所述部分发射的荧光的空间强度分布的值;以及利用所述测量轮廓对荧光的测量值进行修改,以考虑入射在表面上的辐射强度的空间变化。 |
地址 |
英国沃灵顿 |