对准标记及制作方法以及其探测装置

摘要

本发明公开了对准标记制作方法，1、在硅片背面刻蚀出对准标记；2、在对准标记上淀积一层氧化膜。本发明还公开了上述方法制作的对准标记，对准标记设置在硅片的背面。另外，本发明还公开了对准标记的探测装置，包括光源，光源发出的光经过半反半透平面镜，再经过第一凸透镜聚焦、并经过载片台对应于硅片背面对准标记处的孔，聚焦到硅片背面的对准标记上，该光线经过对准标记反射，从对准标记上发出的信号光经过半反半透平面镜，再经过第二凸透镜聚焦，最终成像在探测器平面上。通过本发明对准标记的制作方法得到的对准标记位于硅片的背面，不占用硅片正面的使用面积，而本发明对准标记探测方法可以探测上述对准标记。

主权项

1.一种对准标记制作方法，其特征在于，包括以下步骤：1、在硅片背面刻蚀出对准标记；2、在对准标记上淀积一层氧化膜。