发明名称 |
用于安全元件的连续材料以及其制造的方法和圆柱体 |
摘要 |
本发明涉及一种制造用于安全元件的连续材料的方法,其中该安全元件具有微型光学莫尔放大结构,该微型光学莫尔放大结构表现出由多个微图案元件构成的图案栅格和用于微图案元件的莫尔放大观察的由多个微聚焦元件构成的聚焦元件栅格,该方法包括:a)设置由第一一维或二维点阵形式的微图案元件的至少局部周期性结构构成的图案栅格,b)设置由第二一维或二维点阵形式的多个微聚焦元件的至少局部周期性结构构成的聚焦元件栅格,c)在连续材料上指定图案栅格和/或聚焦元件栅格的模式重复,d)检测图案栅格的点阵和/或聚焦元件栅格的点阵是否在指定的模式重复中周期性地重复,如果不是这样的情况,则确定扭曲第一和/或第二点阵的线性变换,从而其在指定的模式重复中周期性地重复,以及e)用被确定的线性变换扭曲的图案栅格或者被确定的线性变换扭曲的聚焦元件栅格代替图案栅格或聚焦元件栅格。 |
申请公布号 |
CN101687414A |
申请公布日期 |
2010.03.31 |
申请号 |
CN200880017699.5 |
申请日期 |
2008.05.27 |
申请人 |
捷德有限公司 |
发明人 |
W·考勒;W·劳舍特;M·迪希特尔 |
分类号 |
B41F11/02(2006.01)I;B41M3/14(2006.01)I;B42D15/00(2006.01)I |
主分类号 |
B41F11/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京戈程知识产权代理有限公司 |
代理人 |
程 伟;王锦阳 |
主权项 |
1、一种制造用于安全元件的连续材料的方法,其中该安全元件具有微型光学莫尔放大结构,该微型光学莫尔放大结构表现出由多个微图案元件构成的图案栅格和用于微图案元件的莫尔放大观察的由多个微聚焦元件构成的聚焦元件栅格,该方法包括:a)设置由第一一维或二维点阵形式的微图案元件的至少局部周期性结构构成的图案栅格,b)设置由第二一维或二维点阵形式的多个微聚焦元件的至少局部周期性结构构成的聚焦元件栅格,c)在连续材料上指定图案栅格和/或聚焦元件栅格的模式重复,d)检测图案栅格的点阵和/或聚焦元件栅格的点阵是否在指定的模式重复中周期性地重复,如果不是这样的情况,则确定扭曲第一和/或第二点阵的线性变换,从而其在指定的模式重复中周期性地重复,以及e)为了连续材料的进一步制造,用被确定的线性变换扭曲的图案栅格或者被确定的线性变换扭曲的聚焦元件栅格代替图案栅格或聚焦元件栅格。 |
地址 |
德国慕尼黑 |