| 发明名称 | 薄膜太阳电池制造系统以及共用基板保管架 | ||
| 摘要 | 本发明提供可削减工场设置空间的薄膜太阳电池制造系统。薄膜太阳电池制造系统具备：第1共用基板保管架(40-1)、第2共用基板保管架(40-2)和多个处理装置(1～16-2)。第1共用基板保管架(40-1)和第2共用基板保管架(40-2)倾斜地保管基板。多个处理装置(1～16-2)在薄膜太阳电池的制造工序中使用于基板处理，并被配置在第1共用基板保管架(40-1)和第2共用基板保管架(40-2)之间的区域，使基板的搬出部以及搬入部的任意一方朝向第1共用基板保管架(40-1)，另一方朝向第2共用基板保管架(40-2)。第1共用基板保管架(40-1)以及第2共用基板保管架(40-2)被多个处理装置(1～16-2)所共用。 | ||
| 申请公布号 | CN101689582A | 申请公布日期 | 2010.03.31 |
| 申请号 | CN200880020468.X | 申请日期 | 2008.09.30 |
| 申请人 | 三菱重工业株式会社 | 发明人 | 秋山政记;井上正志 |
| 分类号 | H01L31/20(2006.01)I;B65G49/06(2006.01)I;B65D85/86(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李贵亮 |
| 主权项 | 1.一种薄膜太阳电池制造系统，其具备：第1共用基板保管架，其从铅直方向倾斜地保管基板；以及多个处理装置，其在薄膜太阳电池的制造工序中使用于上述基板的处理，并被配置为向上述第1共用基板保管架搬出已结束处理的基板，上述第1共用基板保管架被上述多个处理装置所共用，并且不遵从制造工序处理顺序地保管上述基板。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||