| 发明名称 | 载台驱动方法及载台装置、曝光装置、及元件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种载台驱动方法及载台装置、曝光装置、及元件制造方法，其中所述曝光装置，是透过投影光学系统与液体，使基板曝光。其特征在于具备：第一、第二载台，能分别独立移动；标记检测系统，配置成从该投影光学系统而分离于第一方向，以检测该基板的标记；及驱动系统，是以边在其与该投影光学系统之间保持该液体，边从该第一、第二载台之一方与该投影光学系统相对向的第一状态迁移至该第一、第二载台之另一方与该投影光学系统相对向的第二状态的方式，将该第一、第二载台驱动于与该第一方向交叉的第二方向。以该能量光束来使基板曝光，藉此，能将元件图案精度良好地转印在基板上，结果能提高高集成度的微元件的生产性。 | ||
| 申请公布号 | CN101685263A | 申请公布日期 | 2010.03.31 |
| 申请号 | CN200910168994.7 | 申请日期 | 2005.01.27 |
| 申请人 | 尼康股份有限公司 | 发明人 | 柴崎祐一 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 任默闻 |
| 主权项 | 1.一种曝光装置，是透过投影光学系统与液体，使基板曝光，其特征在于具备：第一、第二载台，能分别独立移动；标记检测系统，配置成从该投影光学系统而分离于第一方向，以检测该基板的标记；及驱动系统，是以边在其与该投影光学系统之间保持该液体，边从该第一、第二载台之一方与该投影光学系统相对向的第一状态迁移至该第一、第二载台之另一方与该投影光学系统相对向的第二状态的方式，将该第一、第二载台驱动于与该第一方向交叉的第二方向。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||