发明名称 |
用于制备内含层的方法 |
摘要 |
本发明提供了用于在第一层上形成内含的第二层的方法,所述方法包括以下步骤:形成具有第一表面能和第一玻璃化转变温度的第一层;使中间材料在第一层上冷凝并与第一层直接接触以形成中间层,所述中间层具有低于所述第一表面能的第二表面能;使所述中间层图案化以形成第一层的未覆盖区域和第一层的覆盖区域;以及在第一层的未覆盖区域上形成内含的第二层。本发明还提供一种用于制造有机电子器件的方法。 |
申请公布号 |
CN101688287A |
申请公布日期 |
2010.03.31 |
申请号 |
CN200880016194.7 |
申请日期 |
2008.05.16 |
申请人 |
E.I.内穆尔杜邦公司 |
发明人 |
C·D·朗;A·戈纳佳;P·A·桑托 |
分类号 |
C23C14/04(2006.01)I;C23C14/12(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H01L51/00(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/04(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
朱黎明 |
主权项 |
1.在第一层上形成内含的第二层的方法,所述方法包括:形成具有第一表面能和第一玻璃化转变温度的第一层;使中间材料在所述第一层上冷凝并与所述第一层直接接触以形成中间层,所述中间层具有低于第一表面能的第二表面能;使所述中间层图案化以形成所述第一层的未覆盖区域和所述第一层的覆盖区域;以及在所述第一层的未覆盖区域上形成内含的第二层。 |
地址 |
美国特拉华州 |