| 摘要 |
<p>L'invention porte sur la fabrication d'une grille électroconductrice submillimétrique (3) revêtue d'une surgrille sur un substrat (2) avec : - la réalisation d'un masque (1) à ouvertures submillimétriques par le dépôt d'une solution de nanoparticules colloïdales polymériques stabilisées et dispersées dans un solvant, les particules polymériques ayant une température de transition vitreuse Tg et le séchage de la couche de masquage à une température inférieure à Tg jusqu'à l'obtention du masque (10), avec des bords droits, - la formation de la grille électrocondutrice par un dépôt de matériau électroconducteur, dit de grille, - un traitement thermique de la couche de masquage avec le matériau de grille à une température supérieure ou égale à 0,8 fois Tg, créant ainsi un espace entre les bords de zones de masque et les bords latéraux (31) de la grille, -un dépôt d'une couche, dite surcouche, en un matériau dit de surcouche, sur la grille et dans l'espace entre les bords de zones de masque (1) et les bords latéraux (31) de la grille. - un enlèvement de la couche de masquage. L'invention porte aussi sur la grille ainsi obtenue.</p> |
