| 发明名称 | 有机薄膜清洗用溶剂 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种能形成膜成分脱落少的薄膜的清洗用溶剂。该有机薄膜的清洗用溶剂的特征为，通过KOH使正十八烷基三甲氧基硅烷水解缩聚而得到的聚合物在25℃的溶解度为100～400mg/g。该溶剂优选是含有至少1种式(I)所示化合物的芳香族烃系溶剂，特别优选是二乙基苯、Solvesso(注册商标)。如图(I)(式中，各R可以相同或不同，表示C<sub>1</sub>-C<sub>18</sub>烷基；n表示2、3或4。) | ||
| 申请公布号 | CN101679923A | 申请公布日期 | 2010.03.24 |
| 申请号 | CN200880020586.0 | 申请日期 | 2008.07.04 |
| 申请人 | 日本曹达株式会社 | 发明人 | 熊泽和久;岛田干也 |
| 分类号 | C11D7/50(2006.01)I;C11D7/24(2006.01)I | 主分类号 | C11D7/50(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 蒋 亭;苗 堃 |
| 主权项 | 1.一种有机薄膜的清洗用溶剂，其特征在于，通过KOH使正十八烷基三甲氧基硅烷水解缩聚而得到的聚合物在25℃的溶解度为100～400mg/g。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||