发明名称 |
电波透过性转印材料的制造方法 |
摘要 |
本发明为可以表现具有清晰轮廓的金属光泽图形的电波透过性转印材料的制造方法。在具有剥离性的基体片材(2)上全面地形成剥离层(3),接着在其上部分地形成水溶性图案层(4),再在其上全面地形成电波透过性金属光泽层(5),然后在其上全面地形成保护层(6)或者在未形成水溶性图案层(4)的区域上部分地形成保护层(6),进行加热处理,之后进行水洗处理将水溶性图案层(4)和形成于其上的电波透过性金属光泽层(5)和保护层(6)剥离除去,接着全面地或部分地形成粘接层(7)。 |
申请公布号 |
CN101678647A |
申请公布日期 |
2010.03.24 |
申请号 |
CN200880017766.3 |
申请日期 |
2008.05.23 |
申请人 |
日本写真印刷株式会社 |
发明人 |
武库宏充;印南享;前田哲宏 |
分类号 |
B32B15/08(2006.01)I;B32B37/00(2006.01)I;B44C1/165(2006.01)I |
主分类号 |
B32B15/08(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
李贵亮 |
主权项 |
1.一种电波透过性转印材料的制造方法,其中,在具有剥离性的基体片材的上层,全面地形成剥离层,在所述剥离层的上层,部分地形成水溶性图案层,在所述剥离层及水溶性图案层的上层,全面地形成电波透过性金属光泽层,在所述电波透过性金属光泽层的上层,全面地形成保护层或者在未形成水溶性图案层的区域部分地形成保护层,进行用于提高所述水溶性图案层和电波透过性金属光泽层和保护层之间的密合性的加热处理,进行水洗处理将水溶性图案层和形成于其上层的电波透过性金属光泽层和保护层剥离除去,全面地或部分地形成粘接层。 |
地址 |
日本国京都府 |