| 发明名称 | 金属膜抛光用垫和使用该金属膜抛光用垫的金属膜的抛光方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种抛光垫和使用该抛光垫的金属膜抛光方法，使用所述抛光垫对在半导体基本上等形成的金属膜进行抛光时，可以提高被抛光面的平坦性和平坦化效率，并且，产生的划痕少。所述金属膜抛光用垫在80℃下的储能模量为200～900MPa，且在110℃下的储能模量为40MPa以下。 | ||
| 申请公布号 | CN101681825A | 申请公布日期 | 2010.03.24 |
| 申请号 | CN200880016787.3 | 申请日期 | 2008.03.19 |
| 申请人 | 可乐丽股份有限公司 | 发明人 | 加藤充;菊池博文;冈本知大;加藤晋哉 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01)I;C08J5/14(2006.01)I;B24B37/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 张平元 |
| 主权项 | 1.一种金属膜抛光用垫，其在80℃下的储能模量为200～900MPa，且在110℃下的储能模量为40MPa以下。 | ||
| 地址 | 日本冈山县 | ||