发明名称 烷氧基化合物、薄膜形成用原料和薄膜的制造方法
摘要 本发明的烷氧基化合物由下述通式(I)表示。本发明的烷氧基化合物是在液体的状态下可以输送且蒸汽压大而易于气化的铁化合物,特别地,可以实现组成控制性优异的薄膜的制造,适合于通过CVD法制造多成分薄膜的情况。见右式(I),式中,R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>分别独立地表示氢原子或者碳原子数为1-4的烷基,R<sup>3</sup>和R<sup>4</sup>表示碳原子数为1-4的烷基,A表示碳原子数为1-8的亚烷基。
申请公布号 CN100595187C 申请公布日期 2010.03.24
申请号 CN200580036149.4 申请日期 2005.10.05
申请人 株式会社艾迪科 发明人 山田直树;樱井淳
分类号 C07C215/08(2006.01)I;H01L21/312(2006.01)I;H01L21/822(2006.01)I;H01L27/04(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;C23C16/40(2006.01)I;C07F15/02(2006.01)I 主分类号 C07C215/08(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 陈建全
主权项 1.一种烷氧基化合物,其由下述通式(I)表示,<img file="C2005800361490002C1.GIF" wi="725" he="198" />式中,R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>分别独立地表示氢原子或者碳原子数为1-4的烷基,R<sup>3</sup>和R<sup>4</sup>表示碳原子数为1-4的烷基,A表示碳原子数为1-8的亚烷基。
地址 日本东京都