| 发明名称 | 全内反射位移刻度尺 | ||
| 摘要 | 本发明描述了使用包括TIR刻度特征物的刻度尺用于确定基底位移的方法和系统。包括作为刻度尺元件的多个全内反射(TIR)棱镜的刻度尺被设置在基底上。被导向刻度尺的光由TIR棱镜调制。根据已调制光产生指示基底的位移的信号。信号可以用于确定幅材位置、控制幅材的移动、和/或测量多种幅材参数。 | ||
| 申请公布号 | CN101680780A | 申请公布日期 | 2010.03.24 |
| 申请号 | CN200880021043.0 | 申请日期 | 2008.06.18 |
| 申请人 | 3M创新有限公司 | 发明人 | 丹尼尔·H·卡尔森;达莱·L·埃内斯;丹尼尔·S·沃茨;路易斯·A·阿吉雷;利文特·伯耶克勒;艾伦·B·坎贝尔 |
| 分类号 | G01D5/34(2006.01)I;G01B11/02(2006.01)I;G01N21/55(2006.01)I;G02B5/04(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G01D5/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 梁晓广;关兆辉 |
| 主权项 | 1.一种确定基底位移的方法，包括：将光导向设置在基底上的刻度尺，所述刻度尺包括作为刻度尺元件的多个全内反射(TIR)棱镜；使用所述全内反射棱镜来调制所述光；以及根据已调制光来产生信号，所述信号指示基底位移。 | ||
| 地址 | 美国明尼苏达州 | ||