发明名称 | 用于划线电子组件衬底的激光透镜的流体抵衡体 | ||
摘要 | 本发明揭示一种用于支撑用于处理电子组件衬底的装置的设备及方法,其包含将激光透镜支撑于重力场中以通过线性致动器沿Z轴进行调焦移动的组合件。用于所述组合件的流体抵衡体由与外壳相关联的用于在行程端限之间移动的活塞界定。所述活塞将所述外壳划分成第一及第二流体室,所述第一及第二流体室具有第一及第二流体连通端口。流体压力源可连接到所述第一及第二室且可调节以使所述经支撑激光透镜平衡地静态悬浮在所述重力场内。所述流体压力源准许所述经支撑激光透镜移动到所述活塞的相反的行程端限之间的任一位置,同时维持所述经支撑激光透镜的质量处于平衡。 | ||
申请公布号 | CN101678506A | 申请公布日期 | 2010.03.24 |
申请号 | CN200880016579.3 | 申请日期 | 2008.05.20 |
申请人 | ESI电子科技工业公司 | 发明人 | 马克·科斯莫夫斯基 |
分类号 | B23K26/04(2006.01)I | 主分类号 | B23K26/04(2006.01)I |
代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 孟 锐 |
主权项 | 1、一种用于支撑用于处理电子组件衬底的装置的一部分的设备,所述设备包含将激光透镜支撑在重力场中以通过线性致动器沿Z轴相对于所述电子组件衬底进行调焦移动的组合件,所述设备包括:流体抵衡体,其用于所述组合件且由流体操作的缸体界定,所述流体操作的缸体具有与外壳相关联的用于在行程端限之间移动的活塞,所述活塞将所述外壳划分成分别具有第一及第二流体连通端口的第一及第二流体室;及流体压力源,其可分别通过所述第一及第二流体连通端口连接到所述第一及第二室,所述流体压力源可调节以使所述经支撑激光透镜平衡地静态悬浮在所述重力场内,所述流体压力源准许所述经支撑激光透镜的质量移动到与所述外壳相关联的所述活塞的相反的行程端限之间的任一位置,同时维持所述经支撑激光透镜的所述质量处于平衡。 | ||
地址 | 美国俄勒冈州 |